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双级反渗透+EDI高纯水设备工艺

一、EDI超纯水制取设备简介

    EDI超纯水制取设备是将离子交换树脂充夹在阴、阳离子交换膜之间形成EDI单元。 EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开,形成浓水室,又在单元组两端设置阴、阳电极。在直流电的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除;此设备一般以RO水作为给水,根据去离子水用途和系统配置,适用于电阻率在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水[2]。  

EDI超纯水制取设备又称连续电除盐是将两种已经成熟的水净化技术电渗析和离子交换相结合,溶解的盐在低能耗的条件下被去除,在运行过程中不需要化学再生,并且其出水电阻率较混床出水还要高,可达10-18.2MΩ.CM,满足国家电子级水I级标准。医院高纯水设备应用EDI系统对一级反渗透出水电导率没有太高的要求,进水电导率在4-30us∕cm其都能够合格产水。可能需增加软化装置,去除水中的钙、镁离子。若电导率较高时只需调节运行电流的大小和加药量(氯化钠)的大小。属于环保型技术,离子交换树脂不需酸、碱化学再生,节约大量酸、碱和清洗用水,大大降低了劳动强度。更重要的是无废酸、废碱液排放,属于非化学式的水处理系统,它无需酸、碱的贮存、处理及无废水的排放。

二、EDI超纯水制取设备工作原理:
  EDI模块将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI模块中将一定数量的EDI单元间用格板隔开,形成浓水室和淡水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水EDI设备一般以二级反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18?MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI超纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。EDI高纯水设备是由几个每小时产水量相同的模块组成,根据实际纯水的使用量开启或停止EDI模块,手动操作相对频繁,但操作比较简单,只需开启EDI进水阀门、极水阀门和浓水阀门,以及打开电源同时根据出水水质调节加药量(氯化钠)、电解电压和电流的大小即可,对操作工的责任心要求较高。EDI高纯水设备是应用在反渗透系统之后,取代传统的混床离子交换技术生产稳定的超纯水。

三、EDI超纯水制取设备与混合离子交换技术相比有如下优点:

  1、水质稳定

  2、容易实现全自动控制

  3、不会因再生而停机

  4、不需化学再生

  5、运行费用低

  6、厂房面积小

  7、无污水排放

四、EDI超纯水制取设备特点

 1. 采用稳压限流或稳流限压的保护方式、限压、限流、稳压、稳流点任意调节;

 2. 手动/自动一体、PLC程序控制、实现EDI水处理全自动化;

 3. 具有软启动功能、 稳压、稳流自动转换,不会造成电源及EDI模块的损坏;

 4. 具有断电记忆、来电自动恢复功能;

 5. 不会产生磁场辐射或干扰电网;

 6. 电源效率高达95%以上;

 7. 模组化可灵活配置不同组数、不同容量EDI系统;

 8. 电源模组之间互不干扰、又可互换、便于在线维护;LED指示面板让工作状态一目了然;[4]

五、EDI超纯水制取设备工艺流程
  预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)[5]

  预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺)[6]

  预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM)(最新工艺)

  预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(最新工艺)

  预处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)[7]

六、EDI超纯水制取设备性能优势
  1、可连续,稳定地生产高品质纯水,无需因树脂再生而停机;

  2、无污染物排放,既环保又省去了废液处理的投资;

  3、设备结构紧凑,占地面积小,节省空间,同时还具有节能优点;

  4、出厂完成装置调试,现场工作量小,上岗培训容易;

  5、日常保养,操作简单,劳动强度低。

七、EDI超纯水制取设备应用领域

 1. 计算机硬盘、半导体材料;

 2. 显像管、液晶显示器、电路板和集成电路; 

 3. 高纯材料及化学试剂;

 4. 实验室用水

 5. 表面处理工艺用水;

 6. 其他高精密产品。 

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